工廠控氨注入量氨氣監測儀器

一、產品介紹
氨逃逸監測系統用于脫硝監控脫硝效率和氨逃逸，可以連續在線監測脫硝反應器氨氣濃度參數。
氨氣檢測使用了基于半導體激光調頻技術的分析儀，可以準確地測量濃度在ppm級的氨氣，因為采用了相敏檢波等技術，大大提高了檢測的準確性。信息更多的通過頻域進行傳輸，所以用簡單的結構即可實現精que測量，在保證測量精度的情況下系統的可靠性更高。
 
二、系統優勢
 
由于工況惡劣，樣氣中含有大量粉塵及飽和水蒸氣，我們采用當前**進的TK-1100型激光氨氣分析儀（基于TDLAS技術）分析微量NH3。系統（包括測量池）采用全程加熱，保證樣品氣體溫度，防止有水析出而對NH3的大量溶解影響分析結果。探頭采用電加熱過濾探頭，在取樣出來就完成樣品的凈化，減小了后級預處理的負荷，大大降低了器件的故障率。系統設計有探頭自動反吹程序及儀表自動標零程序，正常運行后僅需要正常的巡檢即可。傳輸管線采用定制230℃以上高溫復合電伴熱管纜，并控制在2m以內（確保盡量少的NH3吸附），整個預處理全部集成在高溫加熱盒內，系統緊湊以避免長距離傳輸管路對NH3的吸附。
三、技術參數

四、產品特點

1、采用高溫抽取式測量,消除了煙塵、水分等影響因素,保證了測量的準確性和穩定性。
2、采用近紅外可調式激光器,發射出只被測氣體吸收波長的單線光譜,避免了背景氣體交叉干擾。
3、采用2米固定吸收池,相比于折返池,更加穩定,調節更方便。
4、相比于直測式氨逃逸系統,大大減小了鏡頭污染的概率,減少了維護的工作量。
5、相比于直測式氨逃逸系統,可以用隨時標氣來檢驗系統的準確性,有效避免了直測式的標定問題。
6、使用直接吸收絕dui測量法,系統內置標準的NH3參比模塊,實時動態的校準整個系統,系統運行很少會出現信號漂移,所以整套系統無需用戶做任何定期的標定。
7、儀器本身不需要用標氣對儀器進行校正,只需在現場監測光學端窗口鏡片被粉塵污染后迸行簡單拭擦即可。
8、每天可自動進行儀器零點校正,增強了數據的可靠性;
9、具有故障、斷電和檢測數據超標等異常等情況下的自動報警及記錄功能;
10、觸摸屏顯示,操作簡單方便,界面友好。
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工廠控氨注入量氨氣監測儀器